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            日本thermo高溫材料用紅外線真空爐

            產(chǎn)品型號: IVF198RV

            所屬分類:

            產(chǎn)品時間:2024-09-07

            簡要描述:日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV
            利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
            一種臺式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成

            詳細(xì)說明:

            日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

             

            說明?

            利用在真空和各種氣體氣氛中的高溫退火裝置,可以容易地進(jìn)行通過紅外加熱和清潔加熱的快速加熱。
            一種臺式紅外真空爐,由紅外輻射部分,真空室,程序溫度控制器和安全裝置組成。
            有真空室型和石英管法蘭型。

            特點

             

            大加熱速度為150℃/秒,加熱時間為1500℃約1min
            清潔加熱,不影響從熱源散發(fā)的氣體或電磁感應(yīng)
            可以選擇觀察熱樣品。

            用途?

            真空/氣流中的樣品退火
            半導(dǎo)體樣品(例如硅和SiC)和氧化物的熱處理
            石墨烯和CNT加熱
            高溫材料(例如高耐熱金屬和陶瓷)的溫升測試
            在氧氣,氫氣等氣流中退火
            潤濕性測試

            日本thermo高溫材料用紅外線真空爐IVF198RV

            規(guī)格

            紅外真空爐IVF系列具有以下規(guī)格的產(chǎn)品。
              
             
             石英管類型房車類型 加熱氣流中樣品的理想選擇。
             面對面照射石英管型簡歷類型 從上方和下方照射紅外線。
             用于加熱固體和粉末。
             聚焦照射方式W型 由于開口較寬,因此易于打開和關(guān)閉樣品。
             帶有端口的大量腔室可用于各種實驗。
             表面照射類型P型/ PD型 用于加熱2英寸大小的樣品。
              
             
             石英管式紅外真空爐IVF-RV型
            型號名稱IVF198RVIVF298RV
             紅外燈額定值1千瓦2千瓦
             gao溫度1400°攝氏度1600°攝氏度
             加熱面積φ20毫米
             大加熱速度50°C /秒100°C /秒
             大極限真空5×10 -4
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘

             面對面照射石英管式紅外真空爐IVF-CV型

            型號名稱IVF198CVIVF298CV
             紅外燈額定值1千瓦2千瓦
             gao溫度1500°攝氏度1700°攝氏度
             加熱面積φ10毫米x 10毫米φ15毫米x 10毫米
             大加熱速度50°C /秒100°C /秒
             大極限真空5×10 -4
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘

            聚焦輻照紅外真空爐IVF-W

            型號名稱IVF198WIVF298W
             紅外燈額定值1千瓦2千瓦
             gao溫度1300°攝氏度1500°攝氏度
             加熱面積?φ20毫米
             大加熱速度50°C /秒100°C /秒
             大極限真空5×10 -4
             冷水量1升/分鐘2升/分鐘

            表面照射型紅外線真空爐IVF-P / PD型

            型號名稱IVF29PIVF29PDIVF39PD
             紅外燈額定值2千瓦2千瓦x 23千瓦x 2
             gao溫度800°攝氏度1000°攝氏度1200°攝氏度
             加熱面積φ50毫米
             大加熱速度20°C /秒50°C /秒
             大極限真空5×10 -4 P
             冷水量2升/分鐘

             



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